暫時性口內骨支抗裝置（TISAD / TAD）的穩定性受很多因素的影響，例如口腔衛生，口腔疾病，吸煙，粘膜狀況，微種植釘植入位置，加力方法，以及TISAD / TAD的類型等等。
近年來，正畸微種植釘（orthodontic miniscrew，OM）得到了極大的普及；在許多困難的病例中，OM都能提供可靠的支抗。雖然，OM對患者的依從性、牙弓條件要求均很小，但其穩定性并不一致，報道顯示其成功率在59.2–100.0%之間不等。
1、在顴牙槽嵴區域植入正畸微支抗釘穿入上頜竇的影響
微支抗釘被廣泛應用于可預測的牙齒移動，但支抗釘的植入往往受限于解剖結構。這一研究的目的是調查微支抗釘致上頜竇穿孔的發生率及穿孔深度與上頜竇組織之間的關系。
方法：收集32名接受顴牙槽嵴區域植入微支抗釘的患者的數據。通過臨床回顧性分析，確定了支抗釘植入的成功率。獲取支抗釘植入后即刻和移除之前即刻b的CBCT影像，并比較穿孔的發生率、穿孔深度、上頜竇外形。
結果：微支抗釘植入的總成功率為96.7%，而穿入上頜竇的成功率為78.3%。在穿入超過1毫米的人群中，粘膜增厚的發生率為88.2%，增厚的平均值為1.0毫米；然而，在穿入小于1毫米組的人群中，粘膜增厚的發生率為37.5%，平均增厚0.2毫米（P<0.05）。
結論：在顴牙槽嵴區域植入正畸微支抗釘穿入上頜竇的發生率可能很高。對于顴牙槽嵴區的微支抗釘植入，建議穿過雙側皮質骨的植入穿孔深度在1mm之內。
2、正畸微種植釘長度對其長期穩定性的影響
下面這項研究通過前瞻性觀察TISAD / TAD的長度對其的長期穩定性的影響。
方法：在拔牙病例（第一或第二前磨牙）中引入最大的支抗強度，以用于內收下前牙。使用同一種TISAD / TAD：OrthoEasy Pin（Forestadent，Phorzheim，德國），長度為6或8mm。每名患者在隨機選擇的下頜象限（左側或右側）中接受6mm和8mm長的TISAD / TAD，所有的微種植釘都由同一個的正畸醫生照相同的方法植入。
結果：1.如果出現輕微的移動度，但TISAD / TAD仍可用作直接支抗，則仍然認為是成功的。換句話說，只有TISAD / TAD具有較大的動度，不能再作為支抗，或者由于NiTi彈簧的作用被拉松脫，則表示TISAD / TAD“喪失”。
2.總共54個TISAD / TAD中的40個能夠達到治療目標。詳細結果見Table 2。A組中，22枚（81.5％）微種植釘呈現長期穩定性，而B組只有18個（66％）TISAD / TAD在整個治療過程中保持穩定。這種差異有統計學意義（P = 0.0311）。所有植入的微種植釘的總成功率是74％。在一例（患者4）中，兩種長度的TISAD / TAD均失敗。
結論：在20-29歲女性的下頜骨中植入8毫米正畸微種植釘，植入2周后加力100到150克，比6毫米種植釘更穩定。
3、微種植體植入的平均根尖區域研究及擁擠度的考慮
本研究目的為明確微種植釘植入的附著齦水平根尖間區域，以及探究牙列擁擠與可用空間的相關性。
方法：
A.全景片
如圖1：兩鄰牙根尖間垂線直至CEJ作為虛擬尺，直到找到兩鄰牙間距3mm處，記錄該點到CEJ的距離，選取較短的根長作為標準，該距離使用根長的百分比表示，100%表示該牙間不存在至少3mm的間隙。
根據該測量結果制作根尖間微種植釘植入圖，當值小于等于50%時認為是理想的植入區域；值在51%-75%區間內認為是邊界區；當值大于等于76%則認為不宜植入。
B.電子模型
為評價牙弓擁擠度，使用專用掃描儀及軟件將模型計算機化，測量上下頜骨前牙段和后牙段的牙弓擁擠度（mm）。
結果：上頜中，除了雙側尖牙及側切牙間及中切牙間數值呈正態分布，其余根尖區值呈非正態分布；在下頜，除了切牙，其他均呈正態分布，所有擁擠數據均呈非正態分布。
結論：在開始矯正前，平均根尖距離圖能作為微種植釘的植入指南，此外臨床醫生應考慮到擁擠量，若擁擠量大，則根尖區域與報道的平均值存在較大差異，因此仍推薦對每個患者進行射線檢查。
來源：浙一口腔正畸林軍
